%20(1).jpg)
GLAD (Glancing Angle Deposition) Türkçe’ye biraz zorlarsak “Yan Bakışlı Biriktirme” olarak tercüme edilebilir. İnce film yöntemlerinden biri olan bu yöntem kullanılarak özel bir açıyla substrata ince filmler biriktirilirken kontrol edilebilir morfolojiye sahip benzersiz nano yapılar oluşturulur.
GLAD sputtering, yüksek enerjili bir iyon demetinin hedef malzemeye yönlendirilmesiyle başlar. Bu iyon demeti, hedef yüzeyinden koparılan parçaların biriktirme açısına göre substrata yönelen bir hat oluşturmasını sağlar ve hedefin açısal konumuna bağlı olarak hedef malzeme katman katman substrata biriktirilir. Biriktirme açısı genellikle 60 ila 85 derece arasında değişir. Ancak istenilen sonuca bağlı olarak farklılık gösterebilir.
GLAD sputteringde kullanılan yan biriktirme açısı, substrat yüzeyinde eğik sütunlu yapıların oluşmasına yol açar.
Biriktirme parametreleri
Biriktirme açısı
Biriktirme hızı
Substratın dönme hareketi
gibi parametrelerin dikkatli bir şekilde kontrol edilmesi istenilen karmaşık 3 boyutlu nano yapıların oluşması için elzemdir.
GLAD sputtering yüzey pürüzlülüğünün, gözenekliliğin ince film mikroyapısının hassas bir şekilde kontrol edilmesi nedeniyle avantajlıdır. Elde edilen filmler geliştirilmiş ışık tuzaklama, artırılmış yüzey alanı, iyileştirilmiş yapışma ve özelleştirilmiş optik özellikler gibi yeni ve benzersiz ve faydalı özelliklere sahip olabilirler.
Aygıt ve fonksiyonel cihaz geliştirmede kontrol edilebilir 3 boyutlu nano yapılar heyecan verici olanaklar sunar. GLAD sputtering kullanılan alanlardan bazıları şunlardır:
Optik ve Fotonik Uygulamalar
Anti Yansıtma (Anti-reflective) Kaplamalar: GLAD ile optik düzeyde yansımalar azaltılabilir. Gözlük lensleri, kamera objektifleri veya optik sensörleri kullanım alanları arasındadır.
Optik Filtreler: Nano yapıların tasarlanabilirliği ve malzeme seçimi ile belirli dalga boylarına geçiş sağlayıp diğerlerini engelleyen filtreler tasarlanabilir.
Plazmonik Yapılar: Plazmonlar, yüzey plazmon polaritonları* aracılığıyla elektromanyetik ışınımı yönlendirmek için kullanılabilir. Bu uygulamalar optik iletişim, sensör teknolojisi, fotoelektrik cihazlar gibi birçok alanda önemlidir.
Yüzey Mühendisliği ve Malzeme Bilimi
Hidrofobik ve Hidrofilik Kaplamalar: Su itici veya su çekici kaplama yapıları oluşturulabilir.
Yüzey Pürüzlülüğü Kontrolü: Kontrol edilen nano yapılar sayesinde sürtünme katsayısı ya da yüzey pürüzlülüğü değişitirlebilir.
Biyomedikal: Implant gibi vücuda yerleştirilen parçaların biyolojik uyumluluğu artırılabilir, antibakteriyel kaplamalar oluşturulabilir.
Enerji ve Güneş Hücreleri
Güneş Hücreleri: Güneş hücrelerine uygulanan GLAD kaplamalar ışığın daha iyi hapsedilmesine ve ürün verimliliğinin artmasına yardımcı olabilir.
Yakıt Hücreleri: Elektrotların nanoyapıları taşıyıcıların geçişini iyileştirerek reaksiyon verimliliğini artırabilir.
Elektronik ve Manyetik Uygulamalar
Manyetik Depolama Medyası: Nano yapılar bilgi depolama yoğunluğunu artırabilir. Yapılan değişiklikler veri okuma ve yazma süreçlerini optimize edebilir.
Yarıiletkenler: Yarıiletkenler üzerinde yapılacak optimizasyonlar, taşıyıcı geçişlerini iyileştirmek ve verimliliği artırmak gibi katkılara sahip olurlar.
GLAD sputtering metodu ile yapılan kaplamalar farklı şekillere sahip olabilir. Spiral, zikzak ve açılı kaplamalar bunlardan bazılarıdır.
GLAD sputtering alanında çalışma yapmak için kullanabileceğiniz ve distribütörü olduğumuz VACCOAT marka kaplama cihazları için iletişime geçebilirsiniz.
* Elektromanyetik dalga ve yük yoğunluğu salınımları.